在半导体光刻领域，二手NIKONNSRS204B分步投影光刻机堪称“经典实力派”！凭借尼康在光学设备制造的深厚积淀，它一直是成熟制程芯片生产线上的“可靠老将”，深受行业专业人士认可！

NIKONNSRS204B搭载汞灯（i-line，波长365nm）光源，配合高精度投影物镜系统，能够实现0.35μm及以上制程的光刻工艺✨。其卓越的分辨率与套刻精度，可将复杂的电路图案精准转移到晶圆表面，套刻误差严格控制在±70nm以内，为芯片的稳定性能筑牢基础。

设备的曝光效率表现亮眼！采用分步重复曝光技术，每小时可处理6英寸晶圆约100片，能有效满足中小批量生产需求。同时，它具备出色的焦深调节能力，即使晶圆表面存在一定起伏，也能确保曝光质量的均匀性和一致性。

操作方面，NIKONNSRS204B配备简洁直观的人机交互界面，工程师可便捷地设置曝光剂量、扫描参数等关键数据，并支持多组工艺配方的快速调用，大幅提升工艺切换效率。设备内置的自动对准系统，可精准定位晶圆，减少人工调试时间，让光刻流程更加顺畅高效。

在适用场景上，这款光刻机适配范围广泛。无论是消费类电子芯片、电源管理芯片，还是传感器芯片的制造，它都能稳定发挥作用。从晶圆光刻的关键环节，到芯片封装的微小结构加工，NIKONNSRS204B都能以可靠的性能，成为半导体企业优化生产、控制成本的优选设备！

NIKONNSRS204B光刻工艺半导体光刻技术